黄仁勋称中国 2030 年将搞定国产先进光刻机，这一判断能否实现？怎么回事？
英伟达CEO黄仁勋在All-In峰会上判断，中国到2030年就能做出自己的先进光刻系统。他还认为，一旦技术成熟，中国有很强的大规模生产能力，国产设备进入本土晶圆厂只是时间问题。 这个判断明显比蔡司更乐观。蔡司半导体负责人Frank Rohmund最近称，中国要做出国产EUV光刻机，可能还需要约15年。蔡司是阿斯麦EUV光学系统的核心供应商。 不过主持人问的是“advanced lithography systems”，没有具体限定为EUV，黄仁勋在回答中也没有进一步说是EUV。 黄仁勋：中国2030年搞定国产先进光刻机
广告合作位内容与广告清晰分离
为什么受到关注？
该关键词近期出现在知乎热榜，历史最高排名第 29 位。热榜排名只能反映平台内一段时间的关注程度，不等同于事件重要程度或事实结论。
已确认的信息
- 来源平台：知乎
- 首次收录：2026-10-09 04:04:42 UTC
- 最近更新：2026-10-09 05:49:52 UTC
- 最近热度：103 万热度
榜单趋势
最近 8 次榜单快照的排名走势（排名越低越靠前），每格为一次采集记录。
10-09 04:04第30名90 万热度
10-09 04:19第30名91 万热度
10-09 04:34第30名92 万热度
10-09 04:49第30名92 万热度
10-09 05:04第30名95 万热度
10-09 05:19第30名98 万热度
10-09 05:34第30名100 万热度
10-09 05:49第29名103 万热度